芯片生產用超純水的三種工藝
芯片是半導體元件的總稱,芯片制作過程包括芯片設計、晶片制作、封裝制作、測試等幾個環節,其中晶片制作過程尤為的復雜。芯片生產的過程處處都離不開水,在生產過程中需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。下面小編就為大家介紹三種芯片生產用超純水工藝流程:
1、采用離子交換樹脂制備電子工業超純水的傳統水處理方式,其基本工藝流程為:
原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點
2、采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合制備電子工業超純水的方式,其基本工藝流程為:
原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點
3、采用反滲透設備與電去離子(EDI)設備進行搭配制備電子工業超純水的的方式,其基本工藝流程為:
原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點
萊特萊德專注電子超純水領域,是集研發設計、設備制造、工程施工、運營維護為一體的環保解決方案服務商。企業通過ISO9001、ISO14001、OHSAS18001三大體系認證以及歐盟CE認證,擁有多項超純水專用膜技術,針對高精密機械、硅片、科研儀器等產品清洗用水制備。
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